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Física

PLASMA PROCESSES FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION
W. N. G. HITCHON
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Editora Cambridge
Área FÍS. DA MAT. CONDENSADA
Idioma Inglês
Número de páginas 232
Edição 1999
ISBN 0521591759
EAN 9780521591751
Plasma processing is a central technique in the fabrication of semiconductor devices. This self-contained book provides an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. It presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. The author begins with an overview of plasma reactors, and discusses the various models for understanding plasma processes. He then covers plasma chemistry, and describes in detail the modelling of complex plasma systems, with reference to experimental results.
Preço da tabela: R$ 648,00
Nosso preço: R$ 250,00
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